半导体厂对静电消除主要是通过两种模式一个是被动式的静电消除 ， 这个设备解题 ， 包括墙板、高架地板、办公设备等 。 另外一个洁净室的阶梯网 ， 主动式的静电消除就是用静电消除器 ， 针对不同的洁净等级对静电消除器有很多形式 。 第一张图是百级洁净室图片的样子 ， 旁边是千级洁净室内的图片 。 下面还有辐射式的基本也是属于主动式消除的一种 。
新风系统我们单独做一部分讲解 ， 主要是对于半导体来讲对环境是最重要的一部分 ， 也是最容易产生问题的部分 。 新风系统有三大作用 ， 保证洁净室内一定是正压 。 第二是控制洁净室的湿度 。 第三个是净化室外空气、保证供气品质 。 新风系统特点第一能耗比较高 ， 每个范围都会有一个大的制冷扇 ， 还有大风量 ， 再一个结构复杂 。 新风系统在设计上有一些要求 ， 主要是节能方面 ， 整个空调系统占半导体厂能耗的30%%-45%% ， 其中近70%%被新风系统消耗掉 。 所以下面有一些节能的措施 ， 包括设置上可以采用热回收的设计 ， 由于时间的关系这里不再详细介绍 。
最后一个是AMC控制 ， 通常有两个标准一个是ISO14644标准 ， 还有一个是Semi标准 ， AMC分为四种 ， 第一种是酸性 ， 第二种是碱性 ， 第三种是可凝性、第四中是掺杂性 。 碱性的物质主要在光照这部分会产生一些影响 ， 掺杂性的问题并不是很突出孙 ， 其他的情况基本问题不大 。 对于半导体制造的影响很多了 ， 每个制程都有一些影响 ， 举一些例子就是酸、碱、Solvent比较敏感 ， ECP对VOC和酸比较敏感 ， Thin Film对酸敏感 。 AMC的控制大体上有这样一个方案 ， 不同的工厂可能采用的形式不一样 ， 对于新鲜空气AMC控制我们通过两道 ， 第一个是喷气式 。 第二个是化学过滤器 ， 通过这两道过滤送进洁净室的新风会得到比较好的控制 。 在洁净室内有一部分污染是来自洁净室内 ， 这部分还是通过化学过滤器 ， 如果还达不到要求 ， 那就要在设备端小环境再安装一道化学过滤器 ， 来达到要求 。 所以AMC控制要求越来越严 ， 这也是近几年的事情 ， 单单是设备进行过滤已经不能满足要求 ， 所以才出来综合的控制模式 。 具体的一个工厂AMC控制到什么标准要去考量 ， 因为这个成本非常高 ， 业主方如需建设芯片、半导体等电子行业洁净车间 ， 可找合景净化工程公司 ， 比较靠谱 ， 内容就讲到这里 ， 谢谢 。
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